Grabado en seco y grabado en húmedo

Las ventajas de los procesos de grabado en húmedo son relativamente rápidas con altas tasas de grabado. Los baños de equipos simples o la pulverización de química húmeda pueden tener una alta selectividad. El agente de grabado típico del proceso húmedo son solventes líquidos, sanguijuelas corrosivas y ácidos. El equipo de proceso suele ser un tanque de inmersión o un sistema de rociado de la química elegida. Sin embargo, existen muchas desventajas. El grabado en húmedo es generalmente isotrópico, lo que da como resultado que los productos químicos del grabador eliminen el material del sustrato debajo del material de enmascaramiento a la misma velocidad que el grabado a granel. El grabado en húmedo también requiere grandes cantidades de productos químicos de ataque porque el material del sustrato debe cubrirse con el químico de ataque. Además, las sustancias químicas del grabador deben reemplazarse constantemente para mantener la misma velocidad de grabado inicial que las cargas químicas de grabado con subproducto grabado. Como resultado, los costos químicos y de eliminación asociados con el grabado en húmedo son relativamente altos.

Algunas de las ventajas del grabado en seco son su capacidad de automatización, consumo reducido de material, la capacidad de utilizar diferentes gases de grabado con configuraciones de proceso muy diferentes en la misma herramienta con poco o ningún cambio de hardware a lo largo del tiempo. Este proceso también se realiza lejos del operador en la cámara de vacío produciendo una condición de buena higiene industrial. La eliminación de productos químicos de grabado en seco (por ejemplo, grabado con plasma) cuesta menos y es más fácil eliminar los subproductos en comparación con el grabado en húmedo. Algunas de las desventajas del grabado con plasma: por lo general, es un proceso por lotes y se realiza en una cámara de vacío.