Deposición Física de Vapor - Unidades de plasma • Aplicaciones PVD • Recubrimiento para trabajo de metales
La deposición física de vapor, también conocida como PVD, es un proceso de recubrimiento que toma materiales sólidos y los evapora para depositar recubrimientos delgados hasta el nivel atómico sobre una superficie deseada. La deposición física de vapor se utiliza para varios propósitos. El PVD puede mejorar la dureza y la resistencia al desgaste, reducir la fricción de las piezas mecánicas y ralentizar el proceso de oxidación de las superficies metálicas. PVD es un proceso completamente físico. Se puede lograr mediante el uso de condensación y evaporación al vacío a alta temperatura, o se puede realizar mediante el uso de una técnica llamada recubrimiento por pulverización catódica con plasma.
Aplicaciones físicas de la deposición de vapor
La deposición física de vapor se utiliza en la fabricación de muchos artículos y para muchos propósitos. Los materiales comunes que se pueden aplicar como revestimiento mediante la deposición física de vapor son el nitruro de titanio, el nitruro de circonio, el nitruro de cromo y el nitruro de titanio y aluminio. PVD es un paso importante en muchos procesos de fabricación, incluida la fabricación de dispositivos semiconductores y herramientas de corte recubiertas. Hacen que las piezas o superficies sean más duras, más resistentes a la corrosión y a la abrasión. Los recubrimientos PVD pueden ser útiles en casi todos los campos científicos, incluidos el aeroespacial, automotriz, quirúrgico, óptico, etc.
Para obtener más información sobre el uso del plasma en la fabricación, lea nuestro libro electrónico titulado "Guía de activación de superficies del fabricante para una mejor adherencia".
